該申請人涉及專利文獻:1463,涉及專利:1368件
覆蓋主要的IPC大類包括:G06(466)、H01(316)、H03(171)、H04(106)、H02(105)、G05(103)、G01(98)、G11(64)、H10(37)、G09(26)
專利類型分布狀況:發(fā)明公開(968)、發(fā)明專利(361)、實用新型(39)
專利不同法律狀態(tài)數(shù)據(jù)分布狀況:有效專利(476)、實質(zhì)審查(429)、公開(343)、無效專利(77)、失效專利(43)
該領(lǐng)域主要的發(fā)明人有:王政治(105)、陳柏安(65)、日弗·赫詩曼(46)、韋維克(41)、溫文瑩(39)、謝仲銘(29)、韋 維克(28)、溫文瑩(27)、陳柏安(27)、李政道(25)
詳細地址:臺灣 中國臺灣新竹科學工業(yè)園區(qū)
專利類型 | 專利名稱 | 文獻號 |
---|---|---|
發(fā)明授權(quán) | 解決通信接口暫態(tài)脈沖輸出的電子裝置及方法 | CN114691421B |
發(fā)明公開 | 動態(tài)調(diào)整先進先出緩沖運作機制的方法及其的傳輸系統(tǒng) | CN120508272A |
發(fā)明授權(quán) | 放大器電路 | CN115913149B |
發(fā)明授權(quán) | 半導體結(jié)構(gòu) | CN115132838B |
發(fā)明公開 | 測試裝置以及測試方法 | CN120446702A |
發(fā)明公開 | 半導體裝置及其形成方法 | CN120435054A |
發(fā)明公開 | 橫向擴散金屬氧化物半導體場效應(yīng)的制作方法及其晶體管 | CN120435019A |
發(fā)明公開 | 燈效編輯裝置與方法 | CN120417183A |
發(fā)明公開 | 模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換電路及模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換方法 | CN120415437A |
發(fā)明公開 | 集成電路以及確保集成電路安全的方法 | CN120408594A |
查看所有專利
|
排名 | 企業(yè)名稱 | 專利 |
---|---|---|
1 | 新唐科技股份有限公司 | 2259 |
2 | 新唐科技股份有限公司 NUVOTON TECHNOLOGY CORPORATION | 5 |
排名 | 發(fā)明人 | 專利 |
---|---|---|
1 | 王政治 | 105 |
2 | 陳柏安 | 65 |
3 | 日弗·赫詩曼 | 46 |
4 | 韋維克 | 41 |
5 | 溫文瑩 | 39 |
6 | 謝仲銘 | 29 |
7 | 韋 維克 | 28 |
8 | 溫文瑩 | 27 |
9 | 陳柏安 | 27 |
10 | 李政道 | 25 |
排名 | 企業(yè)名稱 | 專利 |
---|---|---|
1 | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 1457 |
2 | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 3 |
3 | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 2 |
4 | 北京中原華和知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 | 1 |
排名 | 代理人 | 專利 |
---|---|---|
1 | 王濤 | 313 |
2 | 洪澄文 | 285 |
3 | 任默聞 | 249 |
4 | 湯在彥 | 192 |
5 | 葉璟宗 | 177 |
6 | 楊長峯 | 168 |
7 | 王天堯 | 166 |
8 | 葉明川 | 154 |
9 | 周永君 | 153 |
10 | 顏錦順 | 152 |